Исследование ионно-электронной эмиссии пленок Cs на гранах (110) и (111) монокристаллов молибдена

При формировании моноатомного слоя в основном изменяется работа выхода поверхности, а величины n_B, и Ԑ_F, практически остаются постоянными. В этих условиях параметры ПЭЭ определяются в основном изменением работы выхода поверхности. При переходе к пленке достаточной толщины следует ожидать изменения всех указанных свойств металла и параметры ПЭЭ будут определяться свойствами адсорбированной пленки. В исследованном диапазоне энергий при бомбардировке чистых граней ионами Ar⁺ величина  γ слабо завесить от Е, что свидетельствует о потенциальном характере механизма эмиссии. В случае ионов Ar⁺наблюдается  сложная зависимость γ_(Е) : до Е=0,5 кэВ γ уменьшается, а затем монотонно возрастется  с ростом Е за счет КЭЭ. Влияние работы выходы поверхности на указанных параметры КЭЭ наиболее заметно  при моноатомном покрытии поверхности адатомами и в случае бомбардировки ионами Не⁺. Этот факт свидетельствует  о том что основной поставщик эмитируемых электронов при субмонослойных покрытиях – кристаллическая подложка. Поскольку значения для указанных двух состояний близки, отмеченный факт указывает на одинаковое количество возбужденных электронов в кристаллической подложке и в пленки металла- адсорбата.